Luận Án Tiến Sĩ Nghiên Cứu Mòn Biên Dạng Điện Cực Và Chất Lượng Bề Mặt Gia Công Bằng Phương Pháp Xung Tia Lửa Điện

1. Đã xác định được bộ thông số tối ưu để đạt được khe hở giữa bề mặt chi tiết và điện cực nhỏ nhất, độ nhám bề mặt nhỏ nhất và độ mòn nhỏ nhất trong quá trình gia công xung định hình là  = 0,38 mm, Ra = 2,75 m, TWR = 0,15 g/giờ. Các kết quả này được cải thiện đáng kể với điện cực đồng đỏ mạ crom với  = 0,33 mm, Ra = 2,32 m, TWR = 0,024 g/giờ.
2. Đã khảo sát ảnh hưởng của mật độ dòng điện đến mòn điện cực và độ nhám bề mặt thấy rằng: Khi tăng mật độ dòng điện thì tỷ lệ giữa lượng mòn điện cực với lượng mòn chi tiết giảm và độ nhám bề mặt tăng. Như vậy có thể thấy rằng độ mòn điện cực và độ nhám bề mặt sẽ ít bị ảnh hưởng nếu trong quá trình gia công chúng ta kiểm soát tốt được mật độ dòng điện. Nếu không sẽ làm tăng độ mòn điện cực và độ nhám bề mặt của chi tiết.

• Luận án tiến sĩ Cơ Khí
• Chuyên ngành Kỹ thuật Cơ Khí
• Người hướng dẫn khoa học: PGS.TS. Hoàng Vĩnh Sinh, TS. Trần Văn Khiêm
• Tác giả: Trần Quang Huy
• Số trang: 112
• Kiểu file: PDF
• Ngôn ngữ: Tiếng Việt
• Đại học Bách khoa Hà Nội 2019

Link Download
http://luanvan.moet.edu.vn/?page=1.11&view=34706
https://drive.google.com/uc?id=1fkihHJ1UcAsjN21IMoXQ180lHh-rL29u
https://drive.google.com/drive/folders/1yLBzZ1rSQoNjmWeJTM6cEZ3WGQHg04L1