Luận Án Tiến Sĩ Xác Định Các Thuộc Tính Plasma Ion Hóa Yếu Trong Va Chạm Electron Của Phân Tử Khí TRIES Và Khả Năng

Discussion in 'Chuyên Ngành Kỹ Thuật Điện Tử' started by quanh.bv, May 15, 2022.

  1. quanh.bv

    quanh.bv Administrator Quản Trị Viên

    upload_2022-5-15_0-16-49.png
    Xác Định Các Thuộc Tính Plasma Ion Hóa Yếu Trong Va Chạm Electron Của Phân Tử Khí TRIES Và Khả Năng Ứng Dụng Trong Công Nghệ Chế Tạo Vi Mạch
    1. Xác định được bộ tiết diện va chạm electron của phân tử khí TRIES;
    2. Xác định được các thuộc tính plasma ion hóa yếu trong va chạm electron của phân tử khí dạng hợp chất hữu cơ (phân tử khí TRIES) thông qua tính toán được các thông số vật lý trong các hỗn hợp khí của phân tử khí TRIES với các chất khí khác trong phóng điện khí là dữ liệu đầu vào cho mô hình plasma ứng dụng trong công nghệ chế tạo vi mạch.
    3. Sản phẩm nghiên cứu của luận án có tác dụng định hướng ứng dụng trong công nghệ chế tạo vi mạch .
    • Luận án tiến sĩ điện điện tử
    • Chuyên ngành Kỹ thuật điện tử
    • Người hướng dẫn: PGS.TS Đỗ Anh Tuấn, PGS. TS Phạm Ngọc Thắng
    • Tác giả: Phan Thị Tươi
    • Số trang: 165
    • Kiểu file: PDF
    • Ngôn ngữ: Tiếng Việt
    • Đại học sư phạm kỹ thuật Hưng Yên 2022
    Link Download
    http://luanvan.moet.edu.vn/?page=1.12&view=39679
    https://drive.google.com/file/d/1O3j3BoSNFc1KNXGh1BrpIdgkDCxvDIAN
    https://drive.google.com/drive/folders/1yLBzZ1rSQoNjmWeJTM6cEZ3WGQHg04L1
     

Share This Page